适用平台
- nan ，软件版本：v2.7.5 ，架构：ARM、x86（64 位）
- 扩展程序；After Effects
软件介绍
BAO Mask Avenger 2 - 单独控制遮罩顶点（和切线）。
版本 2 的新特性
• 保留内存预览：先前版本最大的问题是内存预览失效了。
借助插件，全新的 Mask Avenger 2.0 烘焙系统可以避免这个问题。
•3D蒙版。Mask Avenger现在可以管理3D蒙版，无需使用空图层和表达式。
这样可以更快地计算掩码，也更容易编写表达式。
•背景烘焙。当需要更改面具时，面具复仇者会立即将其转换为
获取当前时间，并在后台烘焙工作区的其余部分。这意味着您可以继续工作。
蒙面复仇者正忙着烘焙。这将取代“动态”和“烘焙”模式。
•烤盘层兼容性更佳。与“动态”模式相关的错误已在新烘焙模式下消失。
系统。
•工作区域和图层持续时间不再影响Mask Avenger的计算速度。当然，
烘焙 10 万个关键帧需要超过 10 个小时，但新的烘焙系统允许您持续工作。
在烘烤过程中。
•Mask Renderer 中不再需要此功能。Mask Avenger 现在使用其自身的 AE 遮罩功能，速度更快。
•面具预览：Mask avenger 2.0 具有预览系统，可在更改发生之前动态地向您显示更改。
应用于蒙版。这样可以避免因表达式、其他图层或摄像机修改蒙版而造成的延迟。
分别控制掩码的每个顶点。
•关键帧、缓动、表达式和 3D 空间。
•您可以只处理顶点，也可以完全控制切线。
•集成脚本可帮助您使用表达式并将掩码链接到空图层。
•使用简单的拾取-鞭动表达式将掩码顶点链接到跟踪点。
•使用冻结模式与没有 Mask Avenger 的用户共享您的项目。
•智能插值模式：根据重心或独立的关键参考点保持体积。
•与自由变换蒙版工具集成。
•掩模读取器：读取掩模路径上任意点的位置和方向数据。
•复仇者形状：将复仇者蒙版应用于图层形状。
•Mask Avenger 是 After Effects 的原生插件。
硬件要求
After Effects CC 2019、CC 2018、CC 2017、CC 2015.3、CC 2015、CC 2014、CC、CS6
软件截图
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